拓荆科技股份有限公司

　　拓荆科技股份有限公司：

　　拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务，多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司总部位于沈阳市，在北京、上海、海宁和美国成立子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备和晶圆混合键合(W2W Hybrid Bonding)设备等系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品的先进水平。产品主要应用于集成电路晶圆制造、TSV 封装、MEMS、Micro-LED 和 Micro-OLED 显示等高端技术领域，已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的60多条生产线。